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    無錫尚積半導體科技有限公司新物理氣相沉積設備、新化學氣相沉積設備和干法刻蝕設備的研發(fā)項目驗收公示

    發(fā)布者:無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責任公司 發(fā)布時間:10/26/2023 1:19:03 PM 點擊次數(shù):2043 關(guān)閉

    根據(jù)《國務院關(guān)于修改<建設項目竣工環(huán)境保護管理條例>的決定》(國務院令第682號),以及環(huán)保部《關(guān)于發(fā)布<建設項目竣工環(huán)境保護驗收暫行辦法>的公告》(國環(huán)規(guī)環(huán)評[2017]4號),現(xiàn)將無錫尚積半導體科技有限公司新物理氣相沉積設備、新化學氣相沉積設備和干法刻蝕設備的研發(fā)項目竣工環(huán)境保護驗收內(nèi)容公示如下:

    項目名稱:新物理氣相沉積設備、新化學氣相沉積設備和干法刻蝕設備的研發(fā)項目

    地點:無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號廠房

    建設單位:無錫尚積半導體科技有限公司

    建設內(nèi)容:竣工驗收報告,詳見附件

    公示時間:2023年10月26日至2023年11月22日

    公示期間:對上述公示內(nèi)容如有異議,請以書面形式反饋,個人須加蓋公章。

    驗收正文

    專家意見